MOEMS
Kacper Krętowski
gr. 45.
Czujnik mikroprzeływu płynów
Zastosowania czujnika
- pomiar przepływu cieczy i gazów pozbawionych cząstek mogących stanowić ścierniwo
- pomiar ciśnienia płynu
- precyzyjne układy dosowania substacji chemicznych
- czujnik stanowiący pętlę sprzężenia zwrotnego układu sterowania mikropompą
Proces technologiczny
elektroda górna
membrana
kanał przepływowy
Proces technologiczny
elektroda górna
Proces technologiczny
elektroda górna
- Pyrex grubości 1 mm
- mycie w roztworze H2S04/H202 2:1
- płukanie w wodzie dejonizowanej
Proces technologiczny
elektroda górna
- Plasma Enhanced CVD
- temperatura 300°C
- 30 minut
Proces technologiczny
elektroda górna
- trawienie środkiem Cyantek CR14
(kwas octowy/azotan amonu i ceru)
- temperatura 25°C
- 10 minut
Proces technologiczny
elektroda górna
- trawienie kwasem HF 40%
- temperatura 40°C
- neutralizacja wodą dejonizowaną
Proces technologiczny
elektroda górna
- Plasma Enhanced CVD
- temperatura 300°C
- 30 minut
Proces technologiczny
membrana
Proces technologiczny
membrana
- wafel grubości 0,1 mm
- mycie ultradźwiękowe w acetonie i alkoholu izopropylowym - 5 minut
- suszenie w strumieniu azotu
Proces technologiczny
membrana
- Plasma Enhanced CVD
- warstwa SiNx grubości 300 nm
- temperatura 350°C
Proces technologiczny
membrana
- kwas H3PO4, stężenie 85%
- temperatura 160°C
Proces technologiczny
membrana
- roztwór KOH, stężenie 80%
- temperatura 80°C
- do uzyskania membrany o grubości 100 mikrometrów
Proces technologiczny
membrana
- kwas H3PO4, stężenie 85%
- temperatura 160°C
Proces technologiczny
kanał przepływowy
Proces technologiczny
kanał przepływowy
mikroobróbka strumieniowo-ścierna
średnica kanału - 400 mikrometrów
Proces technologiczny
łączenie warstw
- ultradźwiękowe mycie wszystkich warstw w acetonie
- napięcie 500 V
- 30 minut