MOEMS

Kacper Krętowski

gr. 45.

Czujnik mikroprzeływu płynów

Zastosowania czujnika

• pomiar przepływu cieczy i gazów pozbawionych cząstek mogących stanowić ścierniwo
• pomiar ciśnienia płynu
• precyzyjne układy dosowania substacji chemicznych
• czujnik stanowiący pętlę sprzężenia zwrotnego układu sterowania mikropompą

Proces technologiczny

elektroda górna

membrana

kanał przepływowy

Proces technologiczny

elektroda górna

Proces technologiczny

elektroda górna

- Pyrex grubości 1 mm

- mycie w roztworze H2S04/H202 2:1

- płukanie w wodzie dejonizowanej

Proces technologiczny

elektroda górna

- Plasma Enhanced CVD

- temperatura 300°C

- 30 minut

Proces technologiczny

elektroda górna

- trawienie środkiem Cyantek CR14

 (kwas octowy/azotan amonu i ceru)

- temperatura 25°C

- 10 minut

Proces technologiczny

elektroda górna

- trawienie kwasem HF 40%

- temperatura 40°C

- neutralizacja wodą dejonizowaną

Proces technologiczny

elektroda górna

- Plasma Enhanced CVD

- temperatura 300°C

- 30 minut

Proces technologiczny

membrana

Proces technologiczny

membrana

- wafel grubości 0,1 mm

- mycie ultradźwiękowe w acetonie i alkoholu izopropylowym - 5 minut

- suszenie w strumieniu azotu

Proces technologiczny

membrana

- Plasma Enhanced CVD

- warstwa SiNx grubości 300 nm

- temperatura 350°C

Proces technologiczny

membrana

- kwas H3PO4, stężenie 85%

- temperatura 160°C

Proces technologiczny

membrana

- roztwór KOH, stężenie 80%

- temperatura 80°C

- do uzyskania membrany o grubości 100 mikrometrów

Proces technologiczny

membrana

- kwas H3PO4, stężenie 85%

- temperatura 160°C

Proces technologiczny

kanał przepływowy

Proces technologiczny

kanał przepływowy

mikroobróbka strumieniowo-ścierna
średnica kanału - 400 mikrometrów

Proces technologiczny

łączenie warstw

- ultradźwiękowe mycie wszystkich warstw w acetonie

- napięcie 500 V
- 30 minut

Dziękuję za uwagę